Modeles
Puissance (Watts)
Dimensions ( mm )
SM-5
5
282x208
SM-10
10
282x208
SM-20
20
352x790
SM-30
30
668x546
SM-40
40
668x780
SM-50
50
418x1075
NE80E2E
80
530x1200
SQ80P
80
527x1200
STP080
80
541x1195
ND-L5E1U
125
662x1499
KC130GT
130
652x1425

Une cellule photovoltaïque est principalement constituée de silicium dopé (semi-conducteur : jonction p-n). Lorsqu'une cellule est exposée au rayonnement électromagnétique solaire, les photons de la lumière transmettent leur énergie aux atomes de la jonction. Cette énergie permet de libérer des électrons (charges N) et de libérer des trous (charges P). Ces charges sont alors maintenues séparées par un champ électrique qui constitue une barrière de potentiel. Une fois les charges P et N isolées, il suffit de fermer le circuit entre ces deux zones pour mettre en mouvement les électrons et créer ainsi un courant électrique.

Il existe un grand nombre de technologies mettant en œuvre l'effet photovoltaïque. La grande majorité d'entre elles sont encore en phase de recherche. Les principales technologies industrialisées en quantité à ce jour sont : le silicium mono ou poly-cristallin et le silicium en couche mince.

Les cellules Mono-cristallines :

Du silicium à l'état brut est fondu pour créer un barreau. Lorsque le refroidissement du silicium est lent et maitrisé, on obtient un mono-cristal. Un Wafer (tranche de silicium) est alors découpé dans le barreau de silicium. Après divers traitements (traitement de surface à l'acide, dopage et création de la jonction P-N, dépôt de couche anti-reflet, pose des collecteurs), le wafer devient cellule.

Les cellules Poly-cristallines :

Le wafer est scié dans un barreau de silicium dont le refroidissement forcé a crée une structure poly-cristalline.

Le Silicium à  couche mince

La technologie à couche mince désigne un type de cellule obtenu par diffusion d'une couche mince de silicium amorphe sur un substrat de verre.


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